本發明提出的基板處理裝置通過水平移動的中轉機械手串聯多個豎直移動的工藝機械手，實現基板從裝置的前端向后端傳輸，或者基板從裝置的后端向前端傳輸，中轉機械手一次傳輸多片基板，可以保證及時轉運多個工藝機械手要處理或處理完畢的基板，工藝機械手在...

本發明提供了一種晶圓清洗裝置和晶圓清洗方法。該裝置包括清洗槽和晶圓承載裝置，所述晶圓承載裝置可升降地設置在所述清洗槽中，所述清洗槽的底部包括至少一個排液閥，所述晶圓承載裝置包括承重齒條，所述承重齒條包括多個齒槽，所述齒槽用于保持晶圓，還...

本發明提供一種半導體設備及其設備前端模塊。設備前端模塊包括設于所述設備前端模塊正面的門框、設于所述門框上的裝載門以及設于所述裝載門正面的裝載端。所述裝載門能相對于所述門框打開和關閉，所述裝載端隨所述裝載門動作而在所述裝載門打開時露出所述...

本發明公開了一種使用超臨界流體對基板進行干燥的干燥裝置及方法，干燥裝置包括上腔體、下腔體、基板托盤、頂升機構、連接組件和鎖緊機構，下腔體設置于上腔體的下方；基板托盤設置于下腔體，用于承載基板；頂升機構設置于下腔體的下方，用于帶動下腔體沿...

本發明涉及半導體生產中的設備，具體為一種熱處理裝置。裝置包括冷卻單元、加熱單元和傳輸單元。冷卻單元包括用于冷卻基板的冷卻板，加熱單元包括用于加熱基板的加熱板；傳輸單元包括傳輸臂、升降模塊和直線模塊，傳輸臂承托基板并在冷卻單元和加熱單元之...

本發明提供一種氣液分離裝置及半導體設備，所述氣液分離裝置包括：氣液分離罐，所述氣液分離罐的外側面并聯有雙層套管裝置，用于所述氣液分離罐的液位聯通和監測；所述雙層套管裝置包括內連通管和外套接管，所述內連通管的兩端與所述氣液分離罐連通，所述...

本發明提供了一種用于晶圓傳送的機械臂裝置、晶圓傳送裝置和清洗設備。該機械臂裝置包括：機械臂支撐部，用于支撐多個機械臂；機械臂控制部，用于控制所述多個機械臂的移動；以及M個機械臂，沿Z軸方向間隔地設置在所述機械臂支撐部上，相鄰的機械臂之間...

本發明提出的基板處理裝置，包括處理腔室；氣體供給部，配置在處理腔室的上部，用于向處理腔室內供應處理氣體；多個基板保持部，配置在處理腔室內并位于氣體供給部的下方，用以保持基板；排氣部，配置在處理腔室的下部，用于從處理腔室中排氣，排氣部包括...

本發明涉及集成電路技術領域，具體為一種晶圓對中調節裝置及調節方法。在晶圓刻蝕前，晶圓對中系統確認晶圓圓心與第一吸附平臺中心是否重合，若不重合，則晶圓對中系統修正晶圓的位置。晶圓刻蝕完成后，晶圓洗邊效果檢測系統確認晶圓刻蝕過程中晶圓圓心與...

本申請涉及一種半導體清洗設備的刷子運動裝置和半導體清洗設備。其中，該半導體清洗設備的刷子運動裝置通過四個導向軸承與主軸驅動連接，且圍繞主軸形成等夾角設置，四個導向軸承在進行旋轉時適于帶動主軸進行旋轉；旋轉驅動單元通過傳動組件與軸承組件連...

本發明提供了一種晶圓電鍍裝置的保護罩，包括殼體、第一環形擋板和第二環形擋板，所述第一環形擋板和所述第二環形擋板都位于所述殼體的內部，所述殼體和所述第一環形擋板圍設形成液體收集槽，所述第二環形擋板位于所述第一環形擋板的上方，所述第二環形擋...

半導體設備及其流體供應裝置。本發明提供一種流體供應裝置，包括：噴頭和流體管路，所述流體管路與噴頭相連，用以向噴頭供應流體；擺動臂，所述擺動臂的一端與所述噴頭連接；支撐桿，所述支撐桿的上端與所述擺動臂的另一端連接；轉動套筒，所述轉動套筒內...

本發明提供了一種氣體供應裝置和包括該氣體供應裝置的基板處理裝置。氣體供應裝置向基板處理裝置供應多組工藝氣體，該基板處理裝置內放置有多個晶圓。氣體供應裝置包括多個用于供應多組工藝氣體的工藝氣體供應單元；工藝氣體臨時儲存器，包括內部空間，該...

本發明提供了一種晶圓電鍍設備，包括陽極腔、陰極腔和離子膜，所述離子膜位于所述陽極腔和所述陰極腔之間，所述陽極腔用于裝載陽極液，所述陽極腔包括陽極和至少一個自旋轉攪拌裝置，所述陽極設置在所述陽極腔的底部，所述至少一個自旋轉攪拌裝置設置在所...

本發明提出的供液裝置及基板清洗方法。供液裝置包括噴嘴，噴嘴的液體入口可采用切向進液方式，利用離心力促使氣液分離；噴嘴的液體出口上方可以設置板狀分離部或者筒狀分離部，可以抑制氣泡從液體出口排出；噴嘴的內部可以采用上、下腔室結構，上、下腔室...

本發明公開了一種電鍍工藝中的球閥控制方法、系統和計算機可讀介質，球閥控制方法包括步驟：S1：將集液漏斗內的液位劃分為連續的多個液位區間，并從多個液位區間中確定預設區間；S2：實時檢測集液漏斗內的液位，確定液位所屬的液位區間；S3：根據所...

基板熱處理裝置包括固定框架；移動底座，用于裝載熱處理模塊；有限板式運動導軌，移動底座通過有限板式運動導軌可移動地安裝在固定框架內，第一定位銷組件，用于在移動底座運動方向上對移動底座進行定位固定；至少兩組滑動組件，分布在移動底座垂直于運動...

本發明涉及一種晶圓翻轉裝置、晶圓翻轉方法和半導體機臺。該晶圓翻轉裝置包括晶圓夾持機構和旋轉機構，晶圓夾持機構包括第一移動單元、第二移動單元、第一夾持單元和第二夾持單元，第一夾持單元包括設置在第一移動單元上的至少一組第一托塊組，每組第一托...

本發明提出的基板提升機構，包括主體支架，所述主體支架包括多個水平支桿，多個水平支桿相互平行且間隔布置，每個水平支桿包括兩個側壁；齒板，所述齒板的頂部設置有等間隔排布的多個插槽，用以保持多個基板；其中，每個水平支桿的至少一個側壁安裝有所述...

本申請提供了一種晶圓電鍍裝置及電鍍工藝中的清洗方法，電鍍裝置包括晶圓夾具、電鍍腔保護罩、儲液槽、擋水環和噴液器，晶圓夾具適用于晶圓到達甩干高度并以第一速度旋轉進行甩干作業，以及帶動晶圓到達沖洗高度并以第二速度旋轉進行沖洗作業；電鍍腔保護...