本實用新型公開了一種用于化學機械拋光的承載頭，所述承載頭包括主體部；彈性膜，其設置于所述主體部的底面；所述彈性膜包括圓形的底板部和圓環(huán)狀的邊緣側筋，所述邊緣側筋包括沿所述底板部的周緣向上豎直延伸形成的直立部和自所述直立部的內(nèi)表面朝徑向內(nèi)...

本實用新型公開了一種減薄設備，包括：設備前端模塊，用于實現(xiàn)晶圓的進出，所述設備前端模塊設置在所述減薄設備的前端；磨削模塊，用于對至少兩片晶圓同時進行粗磨削和/或精磨削，所述磨削模塊設置在所述減薄設備的末端；拋光模塊，用于在完成磨削之后對...

本發(fā)明公開了一種晶圓后處理裝置，其包括：箱體；夾持組件，其設置于箱體中，以水平夾持待清洗晶圓；刷洗組件，其設置于箱體中，所述刷洗組件配置有刷體，所述刷體能夠抵接晶圓并在上方移動；所述刷洗組件還包括轉(zhuǎn)軸和擺臂，所述轉(zhuǎn)軸設置于夾持組件側方，...

本發(fā)明公開了一種晶圓清洗裝置，其包括箱體，其內(nèi)部設置有溢流槽；支撐組件，其設置于所述溢流槽中，以支撐并帶動晶圓旋轉(zhuǎn)；噴液組件，其設置于所述溢流槽中，以朝向溢流槽底部噴射液體；所述溢流槽包括槽主體、整流部和收縮部，所述槽主體為矩形槽體，所...

本發(fā)明公開了一種基板磨削工作臺和基板磨削裝備，所述基板磨削工作臺包括：安裝座；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部，其設置于所述安裝座的下方；陶瓷吸盤，其設置于所述安裝座的上方，以吸合待磨削的基板；所述安裝座與陶瓷吸盤的接觸處配置有輔助結構，其能夠在所述接觸處的...

本發(fā)明公開了一種晶圓清洗裝置和晶圓后處理裝備，所述晶圓清洗裝置包括：箱體；支撐部，其設置于箱體中，以豎向支撐待清洗的晶圓；振板，其傾斜設置于箱體中，以從側向提供高頻振動；噴液部，其朝向振板圍成的內(nèi)槽噴射流體，以將高頻振動剝離的污染物從內(nèi)...

本公開提供一種用于晶圓金屬薄膜厚度的測量儀及測量方法，其中，測量方法用于晶圓金屬薄膜厚度的測量儀。測量儀包括：承載盤，用于承載晶圓，其中，晶圓的上表面覆蓋金屬薄膜；電渦流傳感器，設置在承載盤的上方，配置成利用渦流效應在晶圓的金屬薄膜內(nèi)激...

本實用新型公開了一種基板磨削組件和基板磨削裝置，所述基板磨削組件包括：支撐體，其上設置有豎向的基體通孔；旋轉(zhuǎn)體，其同軸設置于所述基體通孔，旋轉(zhuǎn)體的下部設置有磨削砂輪；所述旋轉(zhuǎn)體包括芯軸、止推座和止推板，所述芯軸間隙設置于所述基體通孔中，...

本實用新型提供了一種晶圓減薄裝置，所述晶圓減薄裝置包括轉(zhuǎn)臺，所述轉(zhuǎn)臺的表面配置有6個工位，沿旋轉(zhuǎn)方向依次為多個上下料清洗工位、多個粗磨工位和多個精磨工位；所述粗磨工位和所述精磨工位的上方分別設置有粗磨單元和精磨單元。本實用新型提供的減薄...

本發(fā)明公開了一種清洗刷組件和晶圓清洗裝置，該清洗刷組件包括：中芯軸和多孔材料刷體，所述多孔材料刷體包覆所述中芯軸的外表面并形成一體，所述中芯軸為中空結構以形成貫通長度兩端的通液管道，所述中芯軸的軸壁具有多個均勻分布的出液孔以及多個均勻分...

本發(fā)明提供了一種化學機械拋光系統(tǒng)，包括：前置單元，其內(nèi)部儲存有晶圓；設備主體，用于對晶圓進行拋光作業(yè)；機械手，在所述前置單元與所述設備主體之間進行交互以傳遞晶圓；前值量測單元，用于在晶圓傳遞過程中對拋光前的晶圓的厚度進行量測；后值量測單...

本發(fā)明公開了一種用于化學機械拋光的承載頭及其使用方法，所述承載頭包括：主基體；彈性膜，其通過承載盤連接于所述主基體的下方；檢測組件，其設置于所述承載盤的安裝孔并與彈性膜的一個腔室相對應，檢測組件的對應腔室為檢測腔室；所述檢測組件包括銷軸...

本發(fā)明公開了一種化學機械拋光系統(tǒng)的故障診斷方法，應用于氣液箱的故障管理，其包括：獲取檢測數(shù)據(jù)；根據(jù)所述檢測數(shù)據(jù)確定所述氣液箱的運行狀態(tài)；所述檢測數(shù)據(jù)包括氣液箱處于打開狀態(tài)的持續(xù)時間，若氣液箱打開的持續(xù)時間大于或等于預設閾值時間，則所述氣...

本實用新型公開了一種晶圓刷洗裝置，包括擺臂、升降驅(qū)動機構、彈性支撐機構、轉(zhuǎn)軸、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構和刷體；升降驅(qū)動機構、彈性支撐機構和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構均位于擺臂上方，升降驅(qū)動機構、彈性支撐機構和轉(zhuǎn)軸在豎直方向由上至下分布，升降驅(qū)動機構與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構...

本實用新型提供了一種實現(xiàn)軸承水潤滑的晶圓清洗裝置，包括：箱體，其內(nèi)部用于容納晶圓并提供晶圓清洗的空間；清洗組件，包括位于晶圓兩側的兩個水平設置的滾刷，滾刷具有驅(qū)動端和進液端；滾刷在位于其驅(qū)動端的驅(qū)動件的帶動下沿其軸向旋轉(zhuǎn)，對晶圓表面進行...

本實用新型公開了一種用于化學機械拋光的承載頭組件和化學機械拋光設備，其中，承載頭組件包括用于相互連接的主軸法蘭和承載頭法蘭，所述主軸法蘭和承載頭法蘭之間設有定位結構，用于組裝時使各處位置對應；所述主軸法蘭的底部和/或所述承載頭法蘭的頂部...

本實用新型公開了一種晶圓刷洗裝置包括固定座、擺臂和刷洗組件，所述刷洗組件設置于擺臂的端部并在擺臂的帶動下繞固定座擺動；所述刷洗組件包括：支座，其與擺臂固定連接；直線驅(qū)動模塊，其固定端與所述支座固定連接，其活動端可沿豎向移動；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動模塊...

本實用新型公開了一種廢料收集裝置、磨削工作臺和晶圓減薄設備，所述廢料收集裝置設置在磨削工作臺上，所述磨削工作臺包括轉(zhuǎn)臺和集水盤，集水盤環(huán)繞設置于轉(zhuǎn)臺的外周側，所述廢料收集裝置包括容納槽和活動槽，容納槽用于放置活動槽，容納槽設置在集水盤的...

本實用新型提供了一種化學機械拋光系統(tǒng)，其包括：前端單元、多組拋光單元和多組后處理單元；所述后處理單元與所述前端單元之間的狹縫空間內(nèi)配置有行走機構和翻轉(zhuǎn)機構，所述翻轉(zhuǎn)機構豎直承載晶圓并攜帶晶圓沿所述行走機構直線移動，直至移出所述狹縫空間后...

本實用新型公開了一種化學機械拋光系統(tǒng)，其包括前置單元和機臺主體，所述前置單元設置于所述機臺主體的側部；所述機臺主體配置有氣液箱，所述氣液箱的數(shù)量至少一個，其以抽拉的方式設置于機臺主體。方式設置于機臺主體。方式設置于機臺主體。