本實用新型提供了一種晶圓清洗裝置，包括：槽體，其內部形成有供晶圓清洗的容置腔；清洗組件，包括位于晶圓兩側的滾刷；支撐組件，其位于所述清洗組件的下方并與晶圓邊緣接觸，用于支撐并限定晶圓在豎直平面內旋轉；其中，所述支撐組件包括主動輪和測速輪...

本實用新型公開了一種滾輪組件，與實現晶圓清洗的箱體耦接，所述滾輪組件包括活動輪、旋轉軸、安裝座和密封組件；所述密封組件分別與安裝座和箱體固定，用于密封安裝座與箱體之間的縫隙；所述密封組件包括密封墊、外壓環和內壓環，內壓環將密封墊與安裝座...

本發明公開了一種晶圓清洗裝置，包括：箱體、晶圓支撐機構、晶圓刷洗機構和供液組件，所述晶圓支撐機構包括用于承載晶圓并帶動晶圓旋轉的滾輪和安裝座，安裝座用于將滾輪與箱體固定，安裝座和箱體之間設置有密封組件，密封組件包括密封墊、外壓環和內壓環...

本發明公開了一種金屬膜厚在線測量補償方法、膜厚傳感器和設備，方法包括：拋光過程中，獲取膜厚傳感器測量金屬膜厚的第n次輸出量S

本發明公開了一種吸盤工作臺的制造方法和基板減薄設備，所述吸盤工作臺的制造方法包括：將待安裝的吸盤工作臺朝向減薄基座的側部旋轉；將臺座上靠近減薄基座側部的螺栓孔作為基準位置，以所述基準位置為參考確定吸盤組件的螺栓安裝順序；根據螺栓安裝順序...

本發明公開了一種廢料收集裝置、磨削工作臺和晶圓減薄設備，所述廢料收集裝置設置在磨削工作臺上，所述磨削工作臺包括轉臺和集水盤，集水盤環繞設置于轉臺的外周側，所述廢料收集裝置包括容納槽和活動槽，容納槽用于放置活動槽，容納槽設置在集水盤的邊緣...

本發明公開了一種滾輪組件，與實現晶圓清洗的箱體耦接，所述滾輪組件包括活動輪、旋轉軸、安裝座和密封組件；所述密封組件分別與安裝座和箱體固定，用于密封安裝座與箱體之間的縫隙；所述密封組件包括密封墊、外壓環和內壓環，內壓環將密封墊與安裝座固定...

本發明提供了一種實現軸承水潤滑的晶圓清洗裝置，包括：箱體，其內部用于容納晶圓并提供晶圓清洗的空間；清洗組件，包括位于晶圓兩側的兩個水平設置的滾刷，滾刷具有驅動端和進液端；滾刷在位于其驅動端的驅動件的帶動下沿其軸向旋轉，對晶圓表面進行滾動...

本發明提供了一種晶圓后處理裝置，包括：箱體；夾持部，設置于所述箱體中，用于豎直限定晶圓的位置；驅動部，其與所述夾持部傳動連接，以帶動所述夾持部旋轉；清洗部，其在晶圓一側的豎直面內呈扇形擺動，并向晶圓表面噴射漂洗液和/或干燥氣體；旋轉擋圈...

本發明公開了一種承載組件和化學機械拋光系統，所述承載組件包括：承載頭，其上端設置有連接法蘭；驅動件，其下端配置有驅動法蘭；所述連接法蘭與驅動法蘭通過磁吸固定并通過卡接件連接為一體，以將所述驅動件的動力傳遞至承載頭。本發明提供的承載組件和...

本發明提供了一種化學機械拋光系統，其包括：前端單元、多組拋光單元和多組后處理單元；所述后處理單元與所述前端單元之間的狹縫空間內配置有行走機構和翻轉機構，所述翻轉機構豎直承載晶圓并攜帶晶圓沿所述行走機構直線移動，直至移出所述狹縫空間后將晶...

本發明提供了一種化學機械拋光系統，其包括：前端單元、多組拋光單元和多組后處理單元；所述后處理單元與所述前端單元之間的狹縫空間內配置有行走機構和翻轉機構，所述翻轉機構豎直承載晶圓并攜帶晶圓沿所述行走機構直線移動，直至移出所述狹縫空間后將晶...

本發明公開了一種數據補償方法和化學機械拋光設備，其中方法包括：當采集到的膜厚數據出現部分缺失時，采用趨勢補償算法和/或去除率估計補償算法補足缺失部分的數據；其中，所述趨勢補償算法為利用缺失部分的相鄰區域的真實數據的趨勢擬合得到所述缺失部...

本發明提供了一種晶圓清洗的測速輪制動方法及晶圓清洗裝置，包括：通過電磁制動器對測速輪進行制動，其中，所述電磁制動器包括定子、轉子、線圈繞組和摩擦片；向所述線圈繞組中通入不同方向的脈沖電流，使得線圈繞組充磁或消磁；所述線圈繞組充磁后吸引轉...

本發明公開了一種基板磨削組件和基板磨削裝置，所述基板磨削組件包括：支撐體，其上設置有豎向的基體通孔；旋轉體，其同軸設置于所述基體通孔，旋轉體的下部設置有磨削砂輪；所述旋轉體包括芯軸、止推座和止推板，所述芯軸間隙設置于所述基體通孔中，所述...

本實用新型公開了一種磨削工作臺和基板磨削系統，所述磨削工作臺包括：吸盤；安裝座，所述吸盤設置于所述安裝座；所述安裝座的下部配置有固定支撐點和調節支撐點；所述調節支撐點配置有調節機構，其包括檢測模塊、微動調節模塊和精密調節模塊，所述檢測模...

本實用新型提供了一種晶圓清洗裝置，包括：殼體，其內部用于容納晶圓并提供晶圓清洗的空間；清洗組件，包括位于晶圓兩側的滾刷，所述滾刷沿其軸向旋轉，對晶圓表面進行滾動擦洗；驅動組件，包括與晶圓邊緣接觸的驅動輪和測速輪，所述驅動輪用于限定并帶動...

本實用新型提供了一種晶圓清洗裝置和晶圓加工設備，包括：滾刷，分別配置于晶圓的兩側刷洗晶圓的表面；驅動機構，驅動所述滾刷；旋轉機構，用于旋轉晶圓；所述滾刷包括同軸套裝的刷體、第一芯筒、第二芯筒；所述刷體緊貼其內間隔地嵌套有第二芯筒的第一芯...

本實用新型提供了一種用于晶圓清洗的滾刷組件，包括：輥筒，其表面具有多個均勻分布的出液孔；第一固定件，其配置于所述輥筒的一端并且具有連通所述輥筒的進液口；第二固定件，其配置于所述輥筒的另一端，用于在外部驅動裝置的作用下致所述輥筒轉動；海綿...

本實用新型公開了一種晶圓后處理裝置，其包括：殼體；清洗刷，水平設置于殼體中并能夠繞軸線轉動，以對晶圓進行刷洗；噴液組件，所述噴液組件包括噴嘴，所述噴嘴的噴射方向與晶圓的旋轉方向相匹配；所述噴嘴以不同角度朝向晶圓表面噴射，以使噴射的流體覆...