本發明公開了一種用于觀察晶圓中心附件標記的方法，涉及晶圓加工技術領域，包括以下步驟；S1：晶圓上的標記通過通光孔反射至反光鏡上，反光鏡并將光線反射至左側物鏡上，并可觀察到晶圓Y軸區域右側的標記；S2：左側物鏡內的電動推桿運行時，電動推桿...

本發明公開了一種用于光刻設備的直線轉旋轉裝置，包括：掩模板運動臺，用于承載掩模板，掩模板運動臺能夠進行旋轉運動；直線運動模組，用于通過直線運動來驅動掩模板運動臺進行旋轉運動，直線運動模組包括推力軸承；轉接件，轉接件被設置在掩模板運動臺上...

本發明公開了一種用于提高曝光效果的方法，包括：將硅片置于chuck臺上，chuck臺具有氣道并且硅片的下表面覆蓋氣道，并且其中掩模板置于chuck臺上方且與硅片不接觸；對氣道抽真空以使硅片吸附在chuck臺上；對硅片和掩模板進行調平和對...

本公開涉及用于測量工件厚度的裝置、方法以及光刻設備。根據本公開的用于測量工件厚度的裝置可包括：本體；光發射器；光接收器；以及相對于本體上下移動的導桿，其中導桿的第一端與工件接觸并且導桿的第二端上設有反射鏡，其中光發射器和光接收器被布置成...

本公開涉及厚度測量裝置、方法以及其光刻設備。根據本公開的厚度測量裝置可包括：用于支撐厚度測量裝置的本體；用于發射測量光的光發射模塊；用于接收測量光的光接收模塊；以及導柱，導柱的第一端被放置成與待加工件表面接觸，其中光發射模塊和光接收模塊...

本公開涉及用于光刻設備的限位架構、預對準模塊和方法以及光刻設備。根據本公開的限位架構可包括：平行的兩條導軌105；設在兩條導軌105上的滑塊110；與滑塊110連接的電機115；掛載在滑塊110的一側的擋光片120；設在兩條導軌105中...

本發明公開了一種柔性的可多自由度調節的反射鏡組件，涉及反射鏡安裝調試技術領域，包括柔性反射鏡安裝支架，柔性反射鏡安裝支架頂部向內加工成凹槽用于放置直角反射鏡；柔性反射鏡安裝支架通過鎖緊螺絲安裝在反射鏡組件的安裝載體上；柔性反射鏡安裝支架...

本發明公開了一種自動清潔異物的晶片盒載物臺，涉及半導體制造技術領域，包括機臺；機臺上可拆卸連接有限位機構，多組限位機構與晶圓傳送盒側壁擠壓接觸使晶圓傳送盒可拆卸固定在機臺上，通過切換限位臺與螺紋孔洞的連接位置來調節限位臺的位置，并調節限...

本發明涉及光刻機領域，公開了一種背面套刻精度驗證及套刻誤差補償方法，包括以下步驟：在透明片正面制作第一套刻標記和在第一套刻標記周圍的第一刻度；采用背面顯微鏡抓圖保存掩模板對準標記，所述掩模板對準標記由第二套刻標記和在第二套刻標記周圍的第...

本發明公開了一種晶圓尋邊方法和裝置，該方法包括：采集晶圓的邊緣圖像，晶圓載置于chuck臺，chuck臺能沿X、Y和θ軸移動；從邊緣圖像獲得圓弧特征點和缺口特征點；對圓弧特征點進行圓擬合以獲得第一經擬合圓；基于第一經擬合圓和第一預設閾值...

本公開涉及用于數據壓縮和解壓縮的方法和裝置。根據本公開的數據壓縮方法可包括：確定要壓縮的一個或多個數據；分別對一個或多個數據中的每一個數據進行編碼以獲得一個或多個編碼數據，其中一個或多個編碼數據中的每一個編碼數據包括第一編碼部分和第二編...

本發明公開了用于吸附晶圓的吸盤，包括：主體，其頂表面設有靠近主體中心的第一氣孔、靠近主體邊緣的第二氣孔和貫通件且能同時被晶圓覆蓋，其內部設有分別與第一和第二氣孔連通的主體第一氣道和主體第二氣道；設在主體下方和外側且頂表面低于主體頂表面的...

本發明公開了一種用于雙軸平臺的旋轉驅動裝置，該雙軸平臺包括平臺底座、位于該平臺底座上方的晶圓吸盤組件、以及位于該平臺底座下方的垂向驅動模塊，該垂向驅動模塊能夠驅動該晶圓吸盤組件進行垂向運動，其中該旋轉驅動裝置包括：位于該平臺底座上的直驅...

本公開涉及掩膜對準系統和方法、以及光刻機。本公開的掩膜對準系統可包括：掩膜對準模塊；以及處理器。該處理器可被配置成：從數個距離傳感器接收數個距離；確定數個距離之間的差異是否小于或等于第一閾值；在確定數個距離之間的差異小于或等于第一閾值的...

本發明公開了一種調平輔助裝置，包括：用于吸附掩模板的掩模板吸附臺，該掩模板吸附臺的中心設置有通孔并且沿該通孔周向布置有多個滑槽，其中硅片能夠通過該通孔從該掩模板吸附臺下方上升，并且該多個滑槽的數目大于等于3個；以及多個調平組件，每個調平...

本發明公開了一種簡易識別片盒規格的裝置及方法，包括：固定板、推桿組件和距離傳感器，固定板上設有輸送輥，固定板上開設有出料部；推桿組件具有第一擋板、第二擋板、第一轉軸和第二轉軸，片盒可操作地置于第一擋板與第二擋板之間，第一擋板能夠以第一轉...

本發明公開了一種多尺寸晶片傳輸檢測裝置，涉及晶片檢測相關領域，包括安裝臺

本發明公開了一種掩模對準光刻設備的對準系統，包括：晶圓

本發明公開了一種用于大翹曲度圓晶的吸附系統，涉及半導體相關領域，包括工作臺，所述工作臺頂部轉動安裝有放置臺，設置了牽引裝置于工作臺的前后兩端，通過牽引管對于圓晶進行牽引，這樣有助于對大翹曲度圓晶進行吸附牽引，方便使大翹曲度圓晶的移動和放...

本發明公開了一種基于彩膠工藝的光刻機標記識別方法，涉及光刻標記相關領域，包括光刻機